[G2 글로벌투자] 중국의 반도체장비 자립

ASML EUV 장비 도입을 할 수 없는 중국이 上海裕量盛科技有限公司 Yuliangsheng 이라는 장비기업을 통해 DUV lithography 장비를 개발해 SMIC, Huawei에서 테스팅을 시작했다고. 빠르면 2027년부터 양산에 투입해 회로선폭 5 나노까지 이 장비로 할 것이라고. Yuliangsheng이 투자한 SiCarrier 라는 또 다른 장비기업은 Tokyo Electron, AMAT와 경쟁하는 장비를 이미 출시했을 뿐 아니라 ASML EUV에 견줄 수 있는 3 나노 이하 장비 개발도 하고 있다. 결국에는 중국이 ASML 없이도 자체 개발한 장비로 타이완과 겨루는 반도체 생산 패권을 노릴 수 있을 것. 한국 씨족재벌은 버티지 못하고 DRAM 주도권마저 잃어버리게 될 것.