삼성전자, ASML 첨단 극자외선장비 도입
사진: ASML의 최첨단 하이(High)-NA 극자외선(EUV) 장비
삼성전자가 네덜란드 ASML의 최첨단 하이(High)-NA 극자외선(EUV) 장비를 올 연말 께 도입한다.
경쟁사와의 첨단 반도체 생산 경쟁에서 우위를 점한다는 계획이지만 인텔, TSMC 등 반도체 라이벌들보다 도입이 뒤쳐져 협상력에서도 경쟁력이 떨어진다는 우려가 나온다.
19일 반도체업계에 따르면 삼성전자는 이르면 올 연말에 차세대 노광장비인 하이-NA EUV 장비인 'EXE:5000'을 도입한다.
EUV 노광장비는 네덜란드 ASML이 전 세계에서 유일하게 생산하는 장비로, 보다 미세한 반도체 제품을 제조할 수 있어 장비 도입이 경쟁력 자체를 좌우한다. 때문에 반도체 생산업체들은 이 장비를 먼저 확보하기 위해 사활을 걸고 있다.
삼성이 도입할 'EXE:5000'은 화성캠퍼스 내에 있는 반도체연구소(NRD)에 위치할 가능성이 높은 것으로 알려졌다.
ASML은 EXE:5000을 올해 총 8대를 공급할 예정이며, 미국 인텔이 대부분을 싹쓸이했고 대만 TSMC도 한 대 이상을 확보한 것으로 전해졌다.
SK하이닉스는 High-NA EUV의 차세대 버전인 EXE:5200을 내년에 도입할 예정이다.
High-NA EUV 장비는 대당 가격이 5천억 원을 넘는 초고가 장비로, 설비가 커 설치 후 상용화까지도 수 개월이 걸리기 때문에 연말에 도입하더라도 본격적인 가동은 내년 상반기 중에나 가능할 전망이다.
한편, 삼성전자와 ASML은 반도체 부문 협력을 위해 국내에 첨단반도체 공동연구소를 건설 중이다.
총 7억 유로(1억350억 원)이 투자되는 공동반도체연구소는 경기도 화성시에 들어설 예정이며 현재 부지를 매입과 인허가 과정이 진행되고 있다.
