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삼성전자의 독자적인 20나노 D램 기술이 중국으로 빼돌려진 사건이 드러났다. 더군다나 기술을 만든 핵심 인력들이 직접 중국으로 넘어갔다는 점이 더 심각한 상황으로 이어지고 있다.
더 놀라운 것은 이 과정에서 국가 기술을 지키기 위한 법적 장치의 허술함이 적나라하게 드러났다는 사실이다.
서울경찰청 산업기술안보수사대는 사건의 중심인 삼성전자 엔지니어 출신 A씨(64)를 구속해 검찰에 넘겼지만, 핵심 범죄는 ‘직업안정법 위반’이라는 다소 낮은 처벌이 적용됐다.
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경찰에 따르면, A씨는 국내에서 컨설팅 회사를 설립 후 헤드헌팅을 가장해 삼성전자와 국내 반도체 업체의 핵심 인력들에게 접근했다.
이들에게 연봉의 최소 2~3배, 주거비와 교통비 지원을 제안하며 중국행을 설득했고, 특히 A씨는 중국 현지에서 설립된 반도체 제조업체 ‘청두가오전(CHJS)’의 고문으로 초기 단계부터 깊이 관여했다.
그 결과, 중국 현지에 D램 반도체 제조 공장이 세워졌고, 통상 4~5년이 걸리는 시범 웨이퍼 생산 과정을 1년 3개월 만에 성공적으로 마쳤다. 이는 국내 기술력과 인력의 결합 없이는 불가능했을 일이다.
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피해 규모는 약 4조 3천억 원에 달하며, 경제적 파급효과를 고려하면 피해는 그 이상일 것으로 경찰은 보고 있다.
청두가오전의 대표 또한 삼성전자와 하이닉스에서 고위직을 지낸 B씨(66)로 밝혀졌다. 그는 중국 지방정부와 협력해 회사를 설립하고 A씨와 같은 헤드헌터를 활용해 국내 인재를 대거 영입했다. 경찰 조사 결과, 이렇게 빼돌려진 인력은 30명 이상으로 확인됐다.
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이 사건이 더욱 논란을 불러일으킨 이유는 처벌의 허술함이다. 경찰은 A씨에게 산업기술보호법이 아닌 직업안정법을 적용할 수밖에 없었다고 밝혔다. 산업기술보호법은 기술 자체를 유출하거나 이를 음모한 행위를 처벌하는 데 초점이 맞춰져 있다. 그러나 A씨와 같은 방식의 ‘인력 유출’에는 적용되지 않는다.
직업안정법에 따르면, 국외 유료직업소개업은 고용노동부 장관의 등록을 받아야 하며, 이를 위반할 경우 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처할 수 있다.
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그러나 산업기술보호법에서는 국가핵심기술 유출 시 최소 3년 이상의 유기징역과 함께 최대 15억 원의 벌금형을 부과한다. 양벌규정에 따라 범죄를 저지른 기업도 처벌이 가능하다.
경찰 관계자는 “현행법의 사각지대가 기술 유출을 막기 어렵게 만들었다”며 “더 엄정한 법 개정을 통해 이 같은 범죄를 예방해야 한다”고 강조했다. 실제로, 기술 유출 방지를 위해 국회에서는 기술 인력 브로커를 처벌할 수 있는 법안이 논의 중이다. 하지만 법안 통과까지는 상당한 시간이 걸릴 것으로 보인다.