인텔, 3nm급 인텔3 공정 기술 美 2개 공장서 대량
인텔이 3nm급 공정 기술이 2개 미국 공장에서 대량 생산에 들어갔다고 밝혔다.
인텔이 19일(현지시간) 인텔 3라는 3nm급 공정 기술이 2개 미국 공장에서 대량 생산에 들어갔다고 발표했다.
새로운 공정은 고성능과 높은 트랜지스터 밀도를 제공하고 초고성능 애플리케이션을 위해 1.2V의 전압을 지원한다. 이 노드는 인텔의 자체 제품 뿐만 아니라 파운드리 고객을 대상으로 지원된다.
인텔의 왈리드 하페즈(Walid Hafez) 파운드리 기술 개발담당 부사장은 “인텔 3는 최근 출시된 인텔 제온 6세대 플랫폼인 ‘시에라 포레스트(Sierra Forest)'와 그레나이트 라피즈(Granite Rapids) CPU를 미국 오리건과 아일랜드 공장에서 대량 생산을 시작했다.”고 밝혔다.
생산 노드는 최대 부하 ’0.6V 저전압‘과 ’1.3V 고전압‘을 모두 지원한다. 또, 동일한 전력 및 트랜지스터 밀도에서 18% 더 높은 성능을 제공할 것이라고 설명했다.
성능과 밀도에 대한 최상의 조합을 위해서는 240nm 고성능과 210nm 고밀도 라이브러리의 조합을 사용해야 한다.
인텔은 3nm급 프로세스 기술을 사용해 제온 6 프로세서 데이터 센터를 만들 예정이다.
인텔은 개선된 트랜지스터를 통해 최첨단 성능과 전력 공급 회로 및 설계를 최적화한 데이터 센터 애플리케이션을 목표로 인텔 3 제조 프로세스를 포지셔닝해 왔다고 밝혔다.
인텔은 베이스 인텔 3 외에도 실리콘 비아를 통해 지원하고 베이스 다이로 사용할 수 있는 인텔 3T도 제공할 예정이며 향후 칩셋 및 스토리지 애플리케이션을 위한 기능 강화 인텔 3-E와 AI/HPC 및 범용 PC와 같은 광범위한 워크로드에 사용할 수 있는 성능 강화 인텔 3-PT도 제공한다는 계획이다.
