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by 누보 Aug 29. 2021

반도체 회사 관련 이것저것 Q&A

ver 3. 본인만의 경쟁력

오랜만에 이공계 반도체 및 연구개발 관련 멘토링을 진행하면서 멘티들에게 질문받았던 내용 중 일부를 발췌해서 올립니다.


현업의 경험을 바탕으로 가감 없이 작성하였기에 다소 주관적일 수 있습니다.


시작합니다.




1. 반도체 전공 및 직군/직무 관련 질문


 1. 혹시 반도체 연구원 되는 데까지 어떠한 과정들을 겪어야 하며 어떠한 스펙들이 필요한지 알려주실 수 있나요?


일단 연구원이라 함은 직군입니다. 직군 내에서 직무를 정하는 것이 중요합니다. 직무를 정한 뒤 이와 관련된 경험을 연결성 있도록 진행하는 것이 좋습니다. 직무 관련 보다 자세한 내용은 SK하이닉스나 삼성 채용 홈페이지 내 직무소개를 참고하시기 바랍니다.


반도체 연구원이 되기 위해 정해진 과정은 없습니다. 2학년부터 전공 기초를 시작으로 본격적인 전공 공부를 시작합니다. 이때 반도체 관련 수업을 수강하며 본인이 반도체 산업에서 어느 분야에 관심이 있는지 파악해야 합니다. 만약 본인이 전공하는 학과에서 반도체 관련 수업이 없고 다른 과에서 진행한다면 해당 전공수업 교수님을 찾아가 말씀드리고 수강하면 됩니다. 전공 수업을 바탕으로 학부 연구생, 인턴, 기업현장실습, 논문 공모전, 세미나/특강/뉴스, 멘토링 등 다양한 활동을 하 접점을 늘리고 내공을 쌓으며 본인만의 스토리를 구축하는 것이 중요합니다.


특히 하나하나의 활동을 프로젝트화 시키는 연습이 필요합니다. '문제점 도출 -> 원인 및 배경 파악 -> 문제 해결을 위한 아이디어 제시 -> 아이디어 실행 -> 결과 해석 -> 향 후 계획' 등 제가 언급한 단계를 유기적으로 연결시키며 일을 진행하면 좋습니다. 해당 단계는 실제 회사 업무 프로세스와 맞닿아 있습니다.



 2. 화학공학이 R&D 공정 직무에 기여할 수 있는 점입니다. 저는 특히 촉매 연구를 하였기에 가스상 물질 반응을 다루는 디퓨전, 에칭, 증착 공정과 관련이 있을 것이라 생각합니다. 여기서 정확히 어떤 일을 할 수 있을지 궁금합니다.


일단 기본적으로 화학은 반도체에서 필수불가결적인 존재입니다.


플라마 상태에서 특정 gas를 주입하고 주입한 불순물을 후속 열처리 과정을 통해 실리콘 기판 내에서 확산시키며 (Diffusion공정) 화학반응(CVD)으로 반도체 막을 형성 (Thinfilm 공정) 합니다. 적층 된 을 화학반응을 통해 정확하게 패터닝하고 (Etch 공정) 미세 particle 존재로 막이 고르지 않은 경우 화학반응으로 제거(Cleaning 공정)  평탄화 (CMP) 하는 등 반도체 전범위에서 화학 맞물려 있습니다.


 조금 더 구체적으로 반도체 엔지니어는 Metal Contact 저항을 낮추기 위해 Contact CD (Critical Dimension), Dopant 농도 및 거동, Defects, Silicide 형성 및 결정성 확인 등 다양한 실험계획법(DOE) 바탕으로 실험 및 분석을 진행하고 해당 결과를 해석, 실제 디바이스 적용하는 업무를 진행합니다. 향 후 멘티님이 소속되는 단위 공정팀에 따라 상세 업무는 변화하지만 큰 맥락은 동일할 것입니다.


아주 미세한 CD 차이는 실제 디바이스에 엄청난 변화를 가져온다.


특히 반도체 엔지니어링 진행 시 실험계획법(DOE)의 중요성은 증대되고 있습니다. DOE(Design of Experiments)를 쉽게 풀어 설명하면 실험을 어떻게 진행하고 해당 실험 결과(Data)를 어떻게 얻고 이를 적절한 통계적 방법을 사용해 결과를 해석하는 것입니다. 다시 말해 최소 실험으로 최대 정보를 얻을 수 있도록 계획하는 것입니다. 다양한 실험계획법 (요인배치법, 반응표면계획법, 다구찌 실험계획법 등) 중 특성에 맞는 실험계획법을 선정하여 실험 진행하고 결과 해석 및 최적화 작업으로 연결시킵니다.


실험계획법 활용의 예


예를 들어 반도체 디바이스 제작에서 최적의 산화막 (Thermal Oxide) 증착 조건을 찾아야 한다고 가정해 봅시다. 산화막을 형성함에 있어 온도, Gas 주입량, 증착 시간, Chamber 내 웨이퍼 위치 등 주요 변화 인자가 존재하며 산화막 두께가 최종 반응 결과로 도출하는 값이라면 실제 실험을 진행하여 각각의 조건 별 산화막 두께 값을 기입하고 예측 결과 기반, 만족도 높은 최적의 조건을 도출합니다. 최적화된 결과를 바탕으로 실제 공정에 적용하는 일련의 과정을 반복하면 새로운 디바이스 개발 및 양산에서 보다 효과적, 효율적으로 풀어낼 수 있습니다. 데이터가 축적되면 이를 기반으로 머신 러닝 등 기술 고도화도 가능합니다.


반도체 디바이스 제작에서 산화막 (Silicon Dioxide) 쓰임과 역할은 중요하다.




2. 연구개발 현직자 업무 관련 질문 


1. 현직자분들이 주로 하는 프로젝트의 일일/주간/월간/분기/연간 업무 패턴과 향후 회사에서 이루고 싶은 목표나 비전(3년/5년/10년 주기)을 알고 싶습니다.


- 기본적으로 주간 단위로 업무 및 보고가 이뤄지고 일일, 월간/분기/연간 각각의 상황에 맞춰 목표를 달성하기 위한 업무 진행합니다. 일일에서 월간, 연간으로 시간이 길어질수록 세부적인 목표를 합해 더 큰 목표로 변화합니다. 세부적인 내용은 대외비로 언급하기 어려운 점 양해 바랍니다.


- 회사 일이라는 것이 수많은 것들이 얽혀있기 때문에 3년/5년/10년 딱딱 맞춰서 진행하는 것은 쉽지 않지만 시간이 흐르고 개인의 역량이 쌓여감에 따라 파트 업무에서 팀 단위 업무 수행, 팀과 팀 간의 협업, 팀을 대표해 TF 참여, 이를 바탕으로 파트장 & 팀장 더 나아가 임원이 됩니다. 나중에 입사하셔서 본인이 업무를 진행하면 확실하게 알 수 있을 것입니다. 개인적으로 8년 현업을 진행했지만 8년의 시간이 결코 길지 않게 느껴집니다.



2. 가장 중요한 성과측정지표가 무엇이고, 좋은 평가를 받으려면 무엇을 잘하면 될까요?


- 중요한 성과지표는 일단 개인이 세운 프로젝트를 완벽하게 달성하는 것입니다.

 
- 하나의 프로젝트에서 최종 목표 완성을 위해 세부적인 아이템을 순차적 혹은 병렬적으로 달성해야 하는데 각각의 아이템 성과가 기존에 세운 목표보다 더 높게 달성된다면 좋은 평가를 받을 수 있습니다. 또한 제조업에서 시간은 생명이므로 목표 달성의 시간을 획기적으로 단축했다면 이 또한 좋을 것입니다.

 
- 개인의 업무 외 회사는 공통의 업무를 진행하기도 합니다. 그룹 내 팀별 다양한 공통 업무를 수행함은 누군가 해야 하는 일을 내가 나서서 했다는 것에 의의가 있으므로 좋은 이미지, 평가로 이어질 수 있습니다.

 
- 결국 회사 또한 사람과 사람 간 관계 형성이 중요합니다. 개인이 월등한 능력을 보이는 것은 쉽지 않습니다. 원활한 팀워크 형성을 통해 전체의 목표 달성을 이룬다면 좋은 성과, 평가로 이어질 것입니다.

 
- 한 가지 덧붙이면 향 후 미래지향적인 관점의 기술(data science, big data 관련 프로그래밍, 의사 결정 기술 등)을 본인이 선제적으로 습득한다면 도움이 될 것입니다.


결국 팀워크가 가장 중요하다.




이상입니다.


현재도 중요하지만 미래로 나아가야 합니다. 혼자가 아닌 다양한 사람을 통해.


여러분들의 건승을 기원합니다.

감사합니다.


참고 자료

[1] 삼성전자 반도체 채용 홈페이지 https://www.samsung-dsrecruit.com/notice/index.php

[2] SK하이닉스 채용 홈페이지 https://recruit.skhynix.com/servlet/reab_jobIntroduce.view

[3] https://slideplayer.com/slide/13048011/

[4] Antioxidants 2014, 3, 700-712

[5] Int J Pow Elec & Dri Syst, Vol. 10, No. 3, Sep 2019 : 1141 – 1147

[6] https://quotesgram.com/funny-quotes-about-teamwork/


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